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MLase光纤光栅刻写系统

技术原理:我们这套光纤光栅刻写系统是采用的相位掩膜版刻写方式,该系统主要刻写流程包括:光纤光敏化、剥纤、光纤夹持、光路调整、激光刻写、光纤切趾、栅区在涂覆、退火等。


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商品描述

技术原理:我们这套光纤光栅刻写系统是采用的相位掩膜版刻写方式,该系统主要刻写流程包括:光纤光敏化、剥纤、光纤夹持、光路调整、激光刻写、光纤切趾、栅区在涂覆、退火等。




 其刻写光路如下图所示,准分子激光器输出的激光通过光路调整模块整形后形成一个长方形均匀光斑。该光斑再经过幅度掩模板后形成与幅度模板形状一致的光斑,并经过柱透镜聚焦后经过相位掩模板,相位掩模板的±1 级衍射形成干涉条纹。当该干涉条纹辐照具有光敏性的光纤一段时间后,就可以在光纤中形成不同强度的光纤光栅,最终光纤光栅的类型和参数将决定于光纤和干涉条纹的相对位置关系、相位掩模板的周期、辐照时间等因素。



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